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2024-09-21 74 最卷一季度蔚小理过得怎么样？
美迪凯取得一种异方性导电膜镀膜结构及其制备方法专利，改进后的镀膜结构受外界影响小
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2024年08月09日 09:59 544
admin
金融界2024年8月8日消息，天眼查知识产权信息显示，杭州美迪凯光电科技股份有限公司取得一项名为“一种异方性导电膜镀膜结构及其制备方法“，授权公告号CN118064833B，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，本发明提供一种异方性导电膜镀膜结构及其制备方法，该膜层包括铝层和导电层，所述导电层包括ITO膜层、Ag层、Ti层、Ni层或NiV层中的一种或几种，所述铝层与硅基接触。本发明采用蒸镀镀膜方法，将硅基放置到蒸镀设备镀膜腔内的镀膜治具上，在70℃条件下对镀膜腔抽真空，将导电层需要的介电质膜材料和/或金属膜材料分别放入到相应的蒸发源中，美迪凯取得一种异方性导电膜镀膜结构及其制备方法专利，改进后的镀膜结构受外界影响小以1Å/s‑20Å/s的速率的蒸发工艺将材料蒸镀到硅片衬底上，制得镀膜片成品。本发明改进后的镀膜结构阻值低，压合过程中电流大，阻值稳定，性能优越且膜层不易脱落，受外界影响小，适合多种应用场景，市场前景广阔。
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